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RTP在PZT薄膜均勻性調(diào)控中的應(yīng)用

  • 分類: 行業(yè)知識
  • 作者:周酉林,王愿兵,李頂房,黃景明,佘志兵,趙云鵬
  • 來源:武漢嘉儀通科技有限公司
  • 發(fā)布時間:2024-01-19
  • 訪問量: 636

【概要描述】       鋯鈦酸鉛(PZT)薄膜具有優(yōu)異的壓電和介電性能···

RTP在PZT薄膜均勻性調(diào)控中的應(yīng)用

【概要描述】       鋯鈦酸鉛(PZT)薄膜具有優(yōu)異的壓電和介電性能···

  • 分類: 行業(yè)知識
  • 作者:周酉林,王愿兵,李頂房,黃景明,佘志兵,趙云鵬
  • 來源:武漢嘉儀通科技有限公司
  • 發(fā)布時間:2024-01-19
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       鋯鈦酸鉛(PZT)薄膜具有優(yōu)異的壓電和介電性能以及與其他壓電膜相比高的居里溫度,已在多個領(lǐng)域進(jìn)行應(yīng)用,從微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)到超聲波傳感器,再到能量收集器,它都發(fā)揮著關(guān)鍵的作用[1]。在材料制備過程中,如何提高材料的均勻性和性能穩(wěn)定性一直是不斷追尋的問題。


       Youcao Ma等[2]人通過中溫磁控濺射和快速熱處理(RTP)的結(jié)合,成功地將微米厚的PZT薄膜集成在一個3英寸的硅片上。特別探討了RTP后PZT薄膜在整個晶片上的均勻性:不同位置的晶體取向、表面形貌和元素組成的差異性。


       圖1說明了PZT薄膜在不同位置具有相似的(001)晶格取向、表面形貌和元素分布,這表明RTP處理有助于實(shí)現(xiàn)PZT薄膜的均勻性??梢园l(fā)現(xiàn),在RTP處理之前,PZT薄膜中只有Py相,而在RTP處理之后,PZT薄膜中主要出現(xiàn)了(001)取向的Pe相。此外,RTP處理后的PZT薄膜表面呈現(xiàn)出緊密排列的柱狀晶粒,且沒有明顯的裂縫或孔洞。

PZT薄膜在RTP處理前后的XRD圖譜和SEM圖像.png

圖1 PZT薄膜在RTP處理前后的XRD圖譜和SEM圖像


       圖2顯示了RTP處理后的晶圓上不同位置PZT薄膜的介電性能和鐵電性能,包括相對介電常數(shù)、鐵電滯回環(huán)和介電損耗。其中,表面形貌非常光滑,沒有明顯的缺陷,這表明PZT薄膜具有良好的表面質(zhì)量。相對介電常數(shù)和介電損耗隨著電場的變化而變化,呈現(xiàn)出典型的鐵電性蝴蝶環(huán),證明了PZT薄膜具有良好的鐵電性。極化-電場曲線也呈現(xiàn)出典型的鐵電性特征,表明PZT薄膜具有良好的鐵電性。因此,RTP處理有助于改善PZT薄膜的微結(jié)構(gòu)和性能,使其在不同位置具有相似的(001)晶格取向、表面形貌和元素分布,有利于提高薄膜的均勻性和性能。

PZT薄膜的表面形貌、相對介電常數(shù)、介電損耗和極化-電場曲線.png

圖2  PZT薄膜的表面形貌、相對介電常數(shù)、介電損耗和極化-電場曲線


       圖3展示了PZT薄膜的退火過程示意圖,弛豫過程中釋放的熱量沒有分散,而是有助于進(jìn)一步促進(jìn)鈣鈦礦相的成核和結(jié)晶。RTP過程是一種有效的方法,可以改善薄膜質(zhì)量。此外,還有一些理論支持。Dang等人研究了退火過程[3],使用朗道模型和朗之萬動力學(xué)模擬,RTP過程可以看作是長程彈性相互作用,這些不同的晶體學(xué)相表現(xiàn)出不同的朗道型自由能。高加熱率使得RTP系統(tǒng)中的能量高于濺射,可以為繞過斜方晶相的形成提供更多的能量,如圖1a所示。


       如圖3所示,與慢加熱率的CFA相比,RTP可能跳過一個相變,生成A/C或B/C兩個相變。在本工作中,沉積的PZT薄膜的初始狀態(tài)不是非晶態(tài),而是不同濺射溫度下的斜方晶相,表明處于圖3中的狀態(tài)B。一般來說,濺射溫度較低(<300℃,綠色矩形)時,PZT薄膜呈現(xiàn)非晶態(tài),而不是在較高溫度(>350°C,中等溫度)下形成的斜方晶相。因此,RTP可能只需要克服能量勢壘F,促進(jìn)從斜方晶相到鈣鈦礦相的相變,如圖4中的藍(lán)色矩形所示。

RTP和CFA的退火過程示意圖.png

圖3 RTP和CFA的退火過程示意圖


       高均勻性的PZT薄膜具有的優(yōu)異鐵電性能源于RTP快速退火爐的良好表現(xiàn),RTP系列產(chǎn)品是武漢嘉儀通科技有限公司的核心產(chǎn)品,在薄膜材料制備及熱處理方面展現(xiàn)出諸多優(yōu)勢,形成鮮明的行業(yè)競爭力,為高質(zhì)量薄膜材料提供了快速升降溫、精準(zhǔn)控溫的高均勻性的高溫場,具體表現(xiàn)在:

       √ 快速升降溫的高溫場,提供了適宜的溫度條件,有利于消除薄膜缺陷,促進(jìn)鐵電相的成核,避免晶粒過大;

       √ 精準(zhǔn)控溫的高溫場能夠促進(jìn)鐵電材料的生長和相轉(zhuǎn)變,獲得更多鐵電相的鐵電材料,提高鐵電性能;

       √ 高均勻性的高溫場有利于保證薄膜各處性能的均勻性,獲得均勻的鐵電性能,滿足工業(yè)化生產(chǎn)的需求。

       此外,嘉儀通快速退火爐(RTP,Rapid Thermal Processing)產(chǎn)品,采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù),可實(shí)現(xiàn)對薄膜材料的快速升溫和降溫,同時搭配超高精度的溫度控制系統(tǒng),可達(dá)到極佳的溫場均勻性和穩(wěn)定性。

       嘉儀通(JouleYacht)快速退火爐系列可處理1-12吋樣品,對材料的快速熱處理、快速熱退火、快速熱氧化、快速熱氮化及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。


       參考文獻(xiàn):

       [1]Presas A, Luo Y, Wang Z, et al. A review of PZT patches applications in submerged systems[J]. Sensors, 2018, 18(7): 2251.

       [2]Ma Y, Song J, Zhao Y, et al. Excellent Uniformity and Properties of Micro-Meter Thick Lead Zirconate Titanate Coatings with Rapid Thermal Annealing[J]. Materials, 2023, 16(8): 3185.

       [3]Dang E K F, Gooding R J. Theory of the effects of rapid thermal annealing on thin-film crystallization[J]. Physical review letters, 1995, 74(19): 3848.


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