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RTP對(duì)KNN薄膜中晶化退火的應(yīng)用

  • 分類: 行業(yè)知識(shí)
  • 作者:周酉林,張維,余隕石,沈冰,商城鍇,劉昌瑋
  • 來源:武漢嘉儀通科技有限公司
  • 發(fā)布時(shí)間:2024-01-19
  • 訪問量: 629

【概要描述】       鈮酸鉀鈉{(K, Na)NbO3, KNN}薄···

RTP對(duì)KNN薄膜中晶化退火的應(yīng)用

【概要描述】       鈮酸鉀鈉{(K, Na)NbO3, KNN}薄···

  • 分類: 行業(yè)知識(shí)
  • 作者:周酉林,張維,余隕石,沈冰,商城鍇,劉昌瑋
  • 來源:武漢嘉儀通科技有限公司
  • 發(fā)布時(shí)間:2024-01-19
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       鈮酸鉀鈉{(K, Na)NbO3, KNN}薄膜具有無鉛的環(huán)境友好性、相對(duì)較高的壓電系數(shù)和較高的居里溫度等特點(diǎn),從而被廣泛研究用以替代PZT薄膜的使用,如在超聲霧化、水聲換能、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域[1]。目前主要通過物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)、化學(xué)溶液沉積(CSD)等方式進(jìn)行制備KNN薄膜。相比PVD、CVD制備法而言,CSD制備法制備過程相對(duì)簡(jiǎn)單,無需復(fù)雜的設(shè)備,易于實(shí)現(xiàn),整體成本更低;而存在的難點(diǎn)是,制備過程中容易形成副產(chǎn)物,以及 制備過程中需要控制好薄膜的紋理和微觀結(jié)構(gòu),進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜熱解中分解和結(jié)晶情況的控制。


       Nikolai等人[2]研究開發(fā)了兩種新的水溶液預(yù)處理方法,通過優(yōu)化合成溫度和化學(xué)溶劑,成功實(shí)現(xiàn)了相純度較高的KNN薄膜。研究還強(qiáng)調(diào),薄膜結(jié)晶過程的熱處理對(duì)KNN的成核和二次相的形成有重要作用。

薄膜的橫截面圖像.png

圖1(a-d)是薄膜的橫截面圖像。(e-h)是薄膜表面的俯視圖圖像


       研究者利用兩種前驅(qū)體溶液的旋涂層成功制備了KNN薄膜。從圖1所示的掃描電鏡圖像中可以明顯看出,這些溶液很好地濕潤(rùn)了襯底,形成了厚度均勻的致密薄膜。KNN-Ox和KNN-MA薄膜的每次沉積的最終薄膜厚度分別為~23 nm和~17 nm。沉積膜的主要收縮發(fā)生在熱解過程中,而厚度在最終退火步驟中保持相對(duì)恒定。在薄膜處理和表征或透射電鏡樣品制備過程中沒有分層,觀察到薄膜與基板的良好粘附性沒有分層。

KNN-Ox和KNN-MA薄膜經(jīng)過550℃和700℃退火的GI-XRD圖譜.png

圖2  KNN-Ox和KNN-MA薄膜經(jīng)過550℃和700℃退火的GI-XRD圖譜


       KNN-Ox和KNN-MA薄膜的GI-XRD數(shù)據(jù)如圖2所示,顯示了在550℃焦化和在700℃退火的薄膜中,KNN存在布拉格反射。在700℃退火后,薄膜產(chǎn)生的衍射線變得更尖銳。值得注意的是,在KNN-Ox膜和KNN-MA膜在O2退火的中存在二次相(K4Nb6O17,K2Nb4O11),而在空氣(O2/N2=1/4)中制備的KNN-MA根據(jù)GI-XRD是相純的。

圖片3.png

       在空氣中合成的KNN-MA薄膜的透射電鏡表征顯示,襯底和KNN薄膜之間有1-3nm厚的外延界面層,隨后整個(gè)薄膜厚度呈柱狀微觀結(jié)構(gòu)。薄的外延層對(duì)應(yīng)于第一沉積層的內(nèi)部(17 nm)。KNN-MA薄膜的θ-2θ衍射結(jié)果表明,該薄膜具有平面外的紋理化。這是由于柱狀晶粒的優(yōu)先取向,盡管PED圖譜映射顯示了一個(gè)局部的平面內(nèi)多晶微觀結(jié)構(gòu)。在極點(diǎn)圖中,沒有觀察到指向紋理的對(duì)稱性;因此,合成過程中的熱處理決定了最終薄膜的紋理/外延程度,這與Yu等人的[3]相一致。這表明,通過改變合成過程中的熱處理,可以從KNN-MA前驅(qū)體溶液中獲得相純外延KNN薄膜。在KNN-MA薄膜的極化電場(chǎng)測(cè)量中,在低頻(0.1和0.3 Hz)下獲得了明顯的鐵電響應(yīng)。


       通過上述結(jié)果顯示,優(yōu)異的鐵電性能的KNN薄膜和控制熱處理過程是密切相關(guān)的,熱處理過程主要由于RTP快速退火爐的良好表現(xiàn),RTP系列產(chǎn)品是武漢嘉儀通科技有限公司的核心產(chǎn)品,在薄膜材料制備及熱處理方面展現(xiàn)出諸多優(yōu)勢(shì),形成鮮明的行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力,為高質(zhì)量薄膜材料提供了速升降溫、精準(zhǔn)控溫的高溫場(chǎng)和氣氛氛圍,具體表現(xiàn)在:

       √ 快速升降溫和氣氛控制,提供了適宜的反應(yīng)條件,有利于鐵電相的生成,減少副產(chǎn)物和避免晶粒過大;

       √ 氣氛控制下的精準(zhǔn)控溫能夠促進(jìn)鐵電材料的結(jié)晶和相轉(zhuǎn)變,獲得更加相純的鐵電材料,提高鐵電性能;

       √ 退火工藝控制可以控制鐵電薄膜的紋理和微觀結(jié)構(gòu),獲得垂直的鐵電相,即特定方向上的鐵電性。

       此外,嘉儀通快速退火爐(RTP,Rapid Thermal Processing)產(chǎn)品,采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù),可實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜材料的快速升溫和降溫,同時(shí)搭配超高精度的溫度控制系統(tǒng),可達(dá)到極佳的溫場(chǎng)均勻性和穩(wěn)定性。

       嘉儀通(JouleYacht)快速退火爐系列可處理1-12吋樣品,對(duì)材料的快速熱處理、快速熱退火、快速熱氧化、快速熱氮化及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。


       參考文獻(xiàn):

       [1]Koruza J, Liu H, H?fling M, et al. (K, Na) NbO3-based piezoelectric single crystals: Growth methods, properties, and applications[J]. Journal of Materials Research, 2020, 35(8): 990-1016.

       [2]Helth Gauk?s N, Dale S M, R?der T M, et al. Controlling phase purity and texture of K0. 5Na0. 5NbO3 thin films by aqueous chemical solution deposition[J]. Materials, 2019, 12(13): 2042.

       [3]Yu Q, Li J F, Chen Y, et al. Effect of Pyrolysis Temperature on Sol–Gel Synthesis of Lead‐free Piezoelectric (K, Na) NbO 3 Films on Nb: SrTiO 3 Substrates[J]. Journal of the American Ceramic Society, 2014, 97(1): 107-113.


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