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01-19 2024 

RTP對(duì)KNN薄膜中晶化退火的應(yīng)用

鈮酸鉀鈉{(K, Na)NbO3, KNN}薄膜具有無鉛的環(huán)境友好性、相對(duì)較高的壓電系數(shù)和較高的居里溫度等特點(diǎn)，從而被廣泛研究用以替代PZT薄膜的使用，如在超聲霧化、水聲換能、生物醫(yī)藥等···

01-19 2024 

RTP在PZT薄膜均勻性調(diào)控中的應(yīng)用

鋯鈦酸鉛（PZT）薄膜具有優(yōu)異的壓電和介電性能以及與其他壓電膜相比高的居里溫度，已在多個(gè)領(lǐng)域進(jìn)行應(yīng)用，從微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）到超聲波傳感器，再到能量收集器，它都發(fā)揮著關(guān)鍵的作用[1···

01-06 2024 

RTP退火爐在Zr基薄膜鐵電性調(diào)控中的應(yīng)用

隨著HfO2和ZrO2基鐵電薄膜的發(fā)展，鐵電存儲(chǔ)領(lǐng)域正經(jīng)歷著新的變革，這些新型薄膜材料有望突破傳統(tǒng)瓶頸，諸如FeRAM、FeFET、FTJ相關(guān)的微縮性和集成性問題，為鐵電存儲(chǔ)器提供“卡脖子”新思路，逐漸成為關(guān)注的焦點(diǎn)。鐵電材料是一種能夠自發(fā)···

01-22 2023 

快速退火爐的硬件更換

快速退火爐采用先進(jìn)的微電腦控制系統(tǒng)和PID閉環(huán)控溫，可達(dá)到較高的控溫精度和溫度均勻性，并可根據(jù)用戶工藝要求配備真空室或多路氣體。快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源，通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-···

01-18 2023 

快速退火爐設(shè)備說明

快速退火爐采用鹵素紅外線燈作為熱源，通過較快的升溫速度將晶圓或材料快速加熱至300°C-1200°C，從而消除晶圓或材料的部分缺陷，提高產(chǎn)品性能。快速退火爐采用先進(jìn)的微電腦控制系統(tǒng)和PID閉環(huán)控溫，可達(dá)到較高的控溫精···

01-14 2023 

快速退火爐用途

快速退火爐用途：快速退火爐主要用于高速鋼、冷熱模具鋼、不銹鋼、彈性合金、高溫合金、磁性材料和鈦合金的真空熱處理、真空釬焊和真空燒結(jié)。快速退火爐結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：加熱室采用不銹鋼框架，隔熱罩為多層石墨氈···

12-31 2022 

快速退火爐結(jié)構(gòu)和使用中的注意事項(xiàng)是怎么樣的？

快速退火爐結(jié)構(gòu)和使用中的注意事項(xiàng)是怎么樣的？　　快速退火爐一般采用碘鎢燈管作為加熱元件，加熱速度快。溫度測(cè)量和模糊PID控制采用s型熱電偶，溫度控制精度高& lt5.快速退火爐配有真空裝置，可在各種氣氛下工作。大大提高了它的···

12-30 2022 

如何選擇一家有實(shí)力的芯片晶圓熱處理公司？

芯片晶圓熱處理也是很常見的事情，在很多行業(yè)當(dāng)中都是會(huì)用到它的。所以很多用戶在采購(gòu)它的時(shí)候都希望找到一家比較靠譜有實(shí)力的廠家來購(gòu)買。這幾年市面上也出現(xiàn)了不少的制造商，為了避免大家找到一些不好的公司，我們接下來就來分享一家有知名的企業(yè)吧。如果你···

12-24 2022 

快速退火爐的使用要點(diǎn)

　　手動(dòng)操作時(shí)，操作員應(yīng)根據(jù)快速退火爐的真空系統(tǒng)中泵和機(jī)器的位置以及模擬屏幕上顯示的材料位置進(jìn)行操作。抽真空時(shí)，先對(duì)加熱室抽真空，再對(duì)冷卻室抽真空，然后對(duì)冷卻室放氣，再對(duì)加熱室放氣。抽真空時(shí)，必須先打開空壓機(jī)，再打開閥門，因?yàn)殚y···

12-22 2022 

芯片晶圓熱處理的一些基本要點(diǎn)？

芯片晶圓熱處理一般采用碘鎢燈管作為加熱元件，而且它的加熱速快。所以說深受大家的青睞。為了讓更多的人可以了解它，今天我們借助這個(gè)機(jī)會(huì)為小伙伴們來說一下在處理的時(shí)候要掌握的一些要點(diǎn)。關(guān)于這些信息你要是也感興趣的話不妨來看看吧。芯片晶圓熱處理主要···